平板状氧化铝微粉
该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到**率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。
平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点
1)平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的**区别是:片状,硬度高,粒度均匀。
2)特点为:
A、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍;
B、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上;
C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%;
D、与国外同类产品相比,质量达到或超过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的50%;
E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。(具体数据可见用户报告)
3、片状氧化铝是以工业氧化铝为原料,添加复合矿化剂,经过高温煅烧而成。晶体形貌为具有一定厚度的片状备用于以下方面的研磨抛光磨料,平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:
1)电子行业: 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。
2)玻璃行业: 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。
3)涂附行业: 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4)金属和陶瓷加工业。
平板状(片状)氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指
平均粒度(D50值)
(由Coulter Counter测试)
规格型号 平均粒度(D50值)
(由Coulter Counter测试)
粒度 |
目数 |
(#) |
TWA0.8 |
0.8 |
10000# |
TWA1 |
1.0 |
8000# |
TWA2 |
2.2 |
6000# |
TWA3 |
3.1 |
4000# |
TWA5 |
4.7 |
3000# |
TWA9 |
6.4 |
2000# |
TWAGF1 |
7.0 |
2200# |
TWA12 |
8.4 |
1500# |
TWA15 |
10.5 |
800# |
TWA20 |
14.5 |
700# |
TWA25 |
17.4 |
700# |
TWA30 |
21.5 |
600# |
TWA35 |
25.5 |
500 # |
TWA45 |
36.0 |
360# |
TWA50 |
42.5 |
320# |
TWA55 |
50.0 |
280# |
TWA6 |
63.0 |
240# |
注明(产品粒度以客户使用要求标准为准)
粒度分布表以TWA12为例)
标准粒径实测数值 |
(um) |
规格(um) |
**粒径 |
(dv-0值) |
16.9<23 |
累积高度3%点的粒径 |
(dv-3值) |
13.63<19 |
累积高度3%点的粒径 |
(dv-3值) |
8.57.8-9 |
累积高度94%点的粒径 |
(dv-94值) |
4.44≥4 |
化学成分
化学成份 |
分析值(%) |
规格值(%) |
AL2O3 |
99.38 |
99.3 |
SiNa2O2 |
0.27 |
0.05 |
Na2O |
0.35 |
0.55 |
Fe2O3 |
0.03 |
0.10 |
物理指标:
化学名称 |
外观 |
比重 |
莫氏硬度 |
A-AL2O3 |
白色 |
3.95-3.98g/cm3 |
9.0 |
包装外貌:
包装材料内衬双层塑料袋,纸箱外包装
包装重量20KG/箱